В ТГУ наладили производство двух ключевых химреагентов для российской микроэлектроники

В Томском госуниверситете будут выпускать химические реагенты, критически важные для российской микроэлектронной промышленности. Проект реализуется на базе «Инжинирингового химико-технологического центра». Специалисты центра приступили к созданию особо чистого HBr (бромистого водорода) и TDMAT (тетракис (диметиламино) титана) для нужд российских предприятий, производящих компоненты для микроэлектроники, сообщает пресс-служба вуза.

Бромистый водород используется в процессе очистки кремниевых пластин – основы для микрочипов. Ранее этот реагент импортировался, но с введением ограничений поставки прекратились. В течение 2023-2024 годов химиками ТГУ была создана отечественная технология производства и очистки, основанная исключительно на российских реагентах, что гарантирует независимость производства. Первые партии HBr успешно прошли промышленные испытания.

TDMAT является ключевым компонентом при производстве полупроводников, сложных электронных устройств, изотопов, оптики, композитных материалов и конструкционных покрытий.

Фото - Freepik.com